密封熱式質量流量控制器GF80系列
GF80 系列金屬密封質量流量控制器擁有以下兩個特點:設計采用與最暢銷的 GF100 系列響應速度相同的傳感器以及第四代 MultiFlo? 專利技術,該產品絕對是高性價比運營的正確選擇。GF80 系列金屬密封質量流量控制器擁有以下兩個特點:設計采用與最暢銷的 GF100 系列響應速度相同的傳感器以及第四代 MultiFlo? 專利技術,該產品絕對是高性價比運營的正確選擇。
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GF80 系列金屬密封質量流量控制器擁有以下兩個特點:設計采用與最暢銷的 GF100 系列響應速度相同的傳感器以及第四代 MultiFlo? 專利技術,該產品絕對是高性價比運營的正確選擇。GF80 系列金屬密封質量流量控制器擁有以下兩個特點:設計采用與最暢銷的 GF100 系列響應速度相同的傳感器以及第四代 MultiFlo? 專利技術,該產品絕對是高性價比運營的正確選擇。
金屬密封熱式質量流量控制器GF80 系列
最高純度氣路。超高精確,無污染的控制。
現今許多高級電子元器件的加工工藝都需要能夠對昂貴的超純氣體和液態前體進行相當準確并且具有高度可重現性的測定和控制。因此,布魯克斯儀器推出了自家的革命性金屬密封熱質量流量控制器和儀表來滿足上述需求。該產品將穩定性和準確性超高的測量傳感器與快速、精準的控制閥以及功能強大的電子元件相結合共同實現了精準的化學品控制。高完整性(無泄漏)的超高純度全金屬流路可確保過程化學品純度,該流路專為防止外部污染(如濕氣和氧氣)腐蝕過程媒介而設計。
關鍵應用
硅材料半導體器件制造工藝 – 蝕刻、剝膜、CVD、ALD、PVD、Epi、擴散、植入和 RTP
化合物半導體器件加工工藝 – MOCVD
精密的表面涂層
分析系統
真空處理應用
選擇最適合自身工藝需求的質量流量設備。
提升價值驅動型金屬密封應用的性能標準
對于許多工業和半導體加工過程,性能和成本效率同樣重要。GF80 系列金屬密封質量流量控制器擁有以下兩個特點:設計采用與最暢銷的 GF100 系列響應速度相同的傳感器以及第四代 MultiFlo? 專利技術,該產品絕對是高性價比運營的正確選擇。另外,金屬密封的 MFC 擁有 MultiFloTM 多氣體/多量程功能所帶來的全部優勢,原因是可用氣體方面沒有限制并且由于不會發生彈性體氧滲透而提升了氣體純度,同時還由于金屬密封件有效期相當長而減少了維護工作量。
特點
長期零點穩定性,每年變動小于滿量程的 ± 0.5%
1 秒內穩定
滿量程流速高達 300 slpm
全金屬密封流路 - 16μ 英寸 Ra 表面處理
耐腐蝕 Hastelloy? 傳感器可在較低溫度下工作,適用于易發生熱分解的氣體
可編程 MultiFloTM 功能 - 一臺設備即可滿足數千種氣體類型和各種量程組合的需求,無需從氣路上拆除 MFC 并且不影響精度
通過有源溫度補償實現的一流溫度系數規范
內嵌式常規自檢功能和獨立的診斷/維護端口
帶有 VCR 配件的細線體設計
DeviceNetTM、Profibus?、RS-485 和模擬接口
優勢
1 秒完成流量穩定,消除廢氣和過程變量影響
未采用會發生氧滲透并且使用一定時間之后需要進行更換的彈性體密封件
MultiFloTM 精簡了過程氣體切換操作 — 無需再拆除并重新校準 MFC
60 秒內即可完成新氣體和/或量程的設定操作
測量精度不受溫度變化影響
可輕松訪問診斷端口以實現運行時間最大化
規格緊湊,可輕松集成至緊張的設備空間內;設備改型的絕佳選擇
多協議通信接口可簡化向現有系統的集成操作
應用
對翻新后的半導體加工工具中的原有 MFC 進行經濟高效的改型/升級
減少六英寸/八英寸半導體工廠的 MFC 庫存
用于 LED 和功率器件生產的 MOCVD
太陽能/薄膜化學氣相沉積 (CVD) 系統
分析用 OEM 設備
型號
規格
性能
機械
等級
診斷和顯示
電氣
承諾